中华人民共和国电子行业军用标准
金电镀层薄层电阻测试方法 SJ 120515—1995
Test method for sheet resistance of gold plating layer
1范围
1.1主题内容
本标准规定了用直排四探针装置测试金电镀层薄层电阻的原理、方法及计算。
1.2适用范围
本标准适用于测试含金量不低于99.0%的金电镀层的薄层电阻。
2引用文件
本章无条文。
3定义
本章无条文。
4一般要求
4.1测试环境条件
温度:23±2℃;
相对湿度:<60%;
大气压力:86~106kPa。
4.2测试设备
4.2.1探针装置4.2.1.1探针材料与尺寸
探针应采用坚硬、耐磨并具有良好导电性能的材料制成。探针一端磨制成45*~90*.的圆锥形,探针尖端直径为25~50μm。
4.2.1.2四探针阵列
四枚探针为一组,组装在一个绝缘在夹持置上。四探针中心轴线应排成一直线,相邻探针
中心的间距为1±0. 008mm。当探针间距的误差大于本条的规定时,所测得参数应进行修正,
修正计算的方法见附录A(补充件)。
4.2.1,3探针及端子
探枚探针应有沿轴线方向施加2N力的装置及电路端子。
4.2.1.4探针运行机构
装置探针的支架应有使探针阵列向被测样品表面垂直运行的机构,能调整、控制探针阵列中心在样品中心±2mm范围内。并使四探针中心连线与样品长边平行,两线夹角不超过2*。
4.2.2标准电阻
标准电阻值为1.0Ω,精度不低于±0.05%。供校准测试电路之用。
4.2.3恒流源
恒流源在输出直流电100mA档,其不确定度数不大于±0.05%。
4.2.4数字电压表
数字电压表灵敏度不低于0.1μV。
4.3试样制备
4.3.1试样
金电镀层薄层电阻测试专用试样是在30mm×20mm×2mm的光洁陶瓷基片上,先用真
空蒸镀0.01μm厚的金或只要起到电镀时导电作用的尽量薄的化学镀铜层,而后进入与制件
.4.3.2试样加工
用切割工具将试样周边5mm的金镀层与中心部分 的金镀层分
割开,使之与相绝缘。
5详细要求
5.1方法的原理概要
原理:让恒流源100mA直流电经过四探针阵列外面一对探针流过样品,用电压表测量里
面一对探针之间的电位差。镀层薄层电阻R.可根据测得的电位差与电流值及其它参数进行
计算得出(见5.2条)。典型电路如下图所示。
5.2测量步骤
a. 校准电路
接通恒流源,使输出为100mA±50μA,测量标准电阻(1.0Ω)两端的电压降,数字电压表应显示为100mA±50uV。
b. 调整探针压力
用测力计检查、调整每个探针的压力为2N。
c.安放样品
将待测试样放在测试装置的平台上,使样品长边与探针阵列中心连线平行,交角在2*之内。
d.接通电压表。
把数字电压表接到中间一对探针上。
e. 效探针阵列
放下探针阵列到样品上,使探针阵列中心在样品中心±2mm范围内,四探针尖端与样品镀层表面接触良好。 ‘
f. 接通恒流源
接通恒流源电源使直流电输出为100mA
g. 记录电位差
记下数字电压表显示的电位差值。
h. 断开恒流源
断开恒流源的电源。
i.升探针阵
升起探针阵。
5.3计算平均值
测量时,在样品中心±2mm范围内,每相隔0.1~0.2mm测取一组电流、电位差值,共测取三组,计算电位差值的算术平均值。
5.4结果计算
5.4.1样品电阻值R的计算
以测得的电位差除以100 mA,按式(1)算出样品电阻值:
………………………………………………(1)
式中:R——样品电阻值,Ω;
V—一中间一对探针电位差,mV。
5.4.2金电镀层薄层电阻值的计算
金电镀层薄屡电阻值按式(2)算出:.
………………………………………………(2)
式中:——金电镀层薄层电阻值.Ω;
R--样品电阻值.Ω;
F--修正因子见表l。
表1
厚度 μm |
F |
2.5 |
4.2357 |
5.0 |
4.2357 |
5.4.3精度
两个平行实验室对同一样品的薄层电阻测量结果的相对偏差为±1.5%.
5.4.4测试报告
5.4.4.1测试报告应包括卞列项目:
5.4.4.1.1样品情况(由送检单位提供)
a.样品送检单位;
b.样品名称;
c.样品编号;
d.金电镀层厚度;
e.测试方法:四探针法(本标准号)。
5.4.4.1.2测试数据
a.样品尺寸(长度×宽度);
b.测试温度、相对湿度、大气压力;
c.测试设备的名称、编号及检定单位、检定编号;
d.测量所用电流值;
e.测得的电位差;
f.测试结果。
5.4.4.1.3测试鉴证
a.测试单位(章);
b.测试负责人;
c.测试操作人;
d.测试日期。
6说明事项
本标准规定的探针间距为1mm.值即为1mm探针间距的特征值,如欲与探针间距不
为lmm的其他方法测得值相比较时,应将值按该方法规定探针间距进行修正后进行比
较。
例如,金镀层电阻值是探针间距为1.27mm时的特征值,采用本方法测得的值应按式
(3)进行修正后进行比较:
………………………………………………(3)
式中:--本标准测得值与其他方法测得值相比时的修正值,Ω;
--按本标准测得的金电镀层薄层电阻值,Ω。
附录A(标准的附录)
修正囱数计算方法
A1探针间距
A1.1用工具显微镜检测探针阵列压痕,记下X座标值(A、B、……H):
H G F E. D C B A
图A1典型探针阵压痕示意
A1.2计算探针间距S1、S2、S3及探针平均间距:
……………………………………(2)
式中:——探针平均间距.mm
S1___探针1到探针2的距离.mm
S2-一探针2到探针3的距离.mm
S3__探针3到探针4的距离.mm。
A2 计算擦针间距修正因子.
………………………………………(A2)
式中:——探针间距修正因子;
S2——探针2到探针3的距离.mm
——探针平均间距.mm.
A3 计算矩形薄膜横向修正因子C
计算样品宽度W与探针平均间距之比(W/);
计算样品长度L与宽度W之比(L/W);
用线性内插法由表A1确定横向修正因子C值。
表A1矩形薄膜横向修正因子C
W/ |
L/W=l |
L/W=2 |
L/W=3 |
L/W=4 |
1.00 |
… |
… |
0.9988 |
0.9994 |
1.25 |
… |
… |
1.2467 |
1.2248 |
1:50 |
… |
1.4788 |
1.4893 |
1.4893 |
1.75 |
… |
1.7196 |
1.7238 |
1.7238 |
2.00 |
… |
I.9454 |
1.9475 |
1.9475 |
2.50 |
… |
2.3532 |
2.3541 |
2.3541 |
3.00 |
2.4575 |
2.7000 |
2.7005 |
2.7005 |
4.00 |
3.1137 |
3.2246 |
3.2248 |
3.2248 |
5.00 |
3.5098 |
3.5749 |
3.5740 |
3.5750 |
7.50 |
4.0095 |
4.0361 |
4.0362 |
4.0362 |
10.00 |
4.2209 |
4.2357 |
4.3257 |
1.3257 |
15.00 |
4.3882 |
4.3947 |
4.3947 |
4.3947 |
20.00 |
4.4516 |
4.4553 |
4.4553 |
4.4553 |
40.00 |
4.5190 |
4.5129 |
4.5129 |
4.5129 |
∞ |
4.5324 |
4.5324 |
4.5324 |
4.5324 |
A4计算薄膜厚度修正因子F(t/)
计算镀层厚度t与探针平均间距亏之比(t/);
用线性内插法从表A2确定薄膜厚度修正因子F(t/)。
表A2薄膜厚度修正因子
t/ |
F(t/) |
O. 4000 |
0.9995 |
0.5000 |
0.9974 |
0.5555 |
0.9948 |
0.6250 |
O.9898 |
0.7143 |
0.9798 |
0.8333 |
0.9600 |
1.0000 |
O.9214 |
A5计算修正因数F
………………………………………………(A3)
式中:F__修正因数;
C——矩形薄膜横向修正因子;
F(t/)——薄膜厚度修正因子;
——探针间距修正因子。
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